《電子工業專用設備》是由中國信息產業部主管,中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦,中國電子專用設備工業協會會刊;是業內最具權威的國內外公開發行的國家級刊物。本刊1971年創刊,已走過了三十多年的歷程,作為信息平臺一直以作風嚴謹、權威著述在業界頗具影響力。
辦刊宗旨:引領產業發展,促進行業交流,推廣產品應用。
雜志定位:加強國際技術的交流與合作,促進產品與市場相結合,面向整個電子設備、生產行業的管理者、電子工程師、采購人員和市場開發人員,全面介紹專用設備領域內的新產品,新技術,新動態。保持刊物的國際性、權威性、實用性。
編輯:本刊擁有一批高素質,嚴要求的編輯隊伍,辦刊30多年來積累了一批由多年從事電子專用設備研究的資深專家、學者和企業核心電子工程師組成的編委會成員,在確保刊物辦得精、深、廣的同時,保留新、專的特性。同時積累了一批在設備領域頗具名望的領導者、知名院士、政府部門主管組成的編輯指導委員會,對刊物進行嚴格指導和審核,使我們的刊物朝著健康正確的方向發展。
欄目設置:專題報道、專家論壇、發展與趨勢、(技術動向)、行業動態、(業界要聞)、新設備新工藝、(論文研制)、制造與工藝、市場與應用、企業之窗、產品擷英。
本刊主要資助項目有:國家自然科學基金、國家高技術研究發展計劃、國家科技重大專項、國家重點基礎研究發展計劃、海南省自然科學基金、湖南省自然科學基金、國家火炬計劃、國防基礎科研計劃、電子信息產業發展基金、國際科技合作與交流專項項目。
本刊主要資助課題有:國家高技術研究發展計劃(2005AA404210)、國家科技重大專項(2009ZX02011-005A)、國家自然科學基金(60576053)、國家高技術研究發展計劃(2009AA043103)、國家科技重大專項(2012ZX04001-022)、國家高技術研究發展計劃(20094A043103)、國家高技術研究發展計劃(2002AA311243)、國家自然科學基金(50390064)、國家火炬計劃(2003EB041301)、國家科技重大專項(2009ZX02010-17)。
1.關鍵詞:一般每篇論文標引2~5個關鍵詞。請盡量使用美國國立醫學圖書館編輯的最新版IndexMedicus中醫學主題詞表(MesH)內所列的詞。必要時,可采用習用的自由詞并排列于最后。
2.正文按“前言、資料(對象)與方法、結果、討論”的順序書寫,為一級標題;以下各級小標題按照:一、(一)、1.安排序號。
3.注釋一律采用腳注。腳注用小五宋體,包括文獻作者、文獻題名、出版社及出版年或期刊的年(卷)、起止頁碼,用帶圓圈的阿拉伯數字序號標注,每頁單獨編號。
4.作者須按作圖數據繪圖。曲線一般經曲線擬合并盡可能“直線化”,如通過對數、倒數等轉換,直線應根據回歸方程繪圖。
5.本刊自發表之日起,如無電子版、網絡版、有聲版等方面的特殊說明,即視作投稿者同意授權本刊電子版、網絡版、有聲版等的復制權、匯編權、翻譯權、信息網絡傳播權及其轉授權等專著權。
機構名稱 | 發文量 | 主要研究主題 |
中國電子科技集團公司第四十五... | 646 | 半導體;光刻;晶圓;電機;拋光 |
中國電子科技集團公司第二研究... | 229 | 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝 |
中國電子科技集團公司第四十八... | 168 | 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入 |
中國電子科技集團公司第四十六... | 118 | 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區熔 |
電子工業部 | 115 | 半導體;光刻;曝光機;切片;切片機 |
北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓;劃片;劃片機;鍵合;封裝 |
中華人民共和國工業和信息化部 | 75 | 光刻;電路;電子專用設備;集成電路;半導體 |
中國電子科技集團公司 | 68 | 電路;集成電路;化學機械拋光;機械拋光;晶片 |
中國電子科技集團第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蝕;激光;光刻機;投影光刻 |
中國科學院 | 54 | 光刻;光刻機;電路;半導體;電子束曝光 |
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主編:葛勱翀
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電子工業專用設備雜志是一本部級期刊,是由中國電子科技集團公司主管,中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的一本電子類期刊。國內刊號:62-1077/TN,國際刊號:1004-4507。該期刊詳細信息可以在國家新聞出版總署網站上查詢。
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