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          1. Ieee Journal Of The Electron Devices Society
            • 數據庫收錄SCIE
            • 創刊年份2013年
            • 年發文量92
            • H-index23

            Ieee Journal Of The Electron Devices Society

            期刊中文名:IEEE電子器件學會雜志ISSN:2168-6734E-ISSN:2168-6734

            該雜志國際簡稱:IEEE J ELECTRON DEVI,是由出版商Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的一本致力于發布工程技術研究新成果的的專業學術期刊。該雜志以ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC研究為重點,主要發表刊登有創見的學術論文文章、行業最新科研成果,扼要報道階段性研究成果和重要研究工作的最新進展,選載對學科發展起指導作用的綜述與專論,促進學術發展,為廣大讀者服務。該刊是一本國際優秀雜志,在國際上有很高的學術影響力。

            基本信息:
            期刊簡稱:IEEE J ELECTRON DEVI
            是否OA:開放
            是否預警:
            Gold OA文章占比:97.60%
            出版信息:
            出版地區:UNITED STATES
            出版周期:1 issue/year
            出版語言:English
            出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
            評價信息:
            中科院分區:3區
            JCR分區:Q3
            影響因子:2
            CiteScore:5.2
            雜志介紹 中科院JCR分區 JCR分區 CiteScore 投稿經驗

            雜志介紹

            Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志介紹

            《Ieee Journal Of The Electron Devices Society》是一本以English為主的開放獲取國際優秀期刊,中文名稱IEEE電子器件學會雜志,本刊主要出版、報道工程技術-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領域的研究動態以及在該領域取得的各方面的經驗和科研成果,介紹該領域有關本專業的最新進展,探討行業發展的思路和方法,以促進學術信息交流,提高行業發展。該刊已被國際權威數據庫SCIE收錄,為該領域相關學科的發展起到了良好的推動作用,也得到了本專業人員的廣泛認可。該刊最新影響因子為2,最新CiteScore 指數為5.2。

            本刊近期中國學者發表的論文主要有:

            • Monolithic Dual-Gate E-Mode Device-Based NAND Logic Block for GaN MIS-HEMTs IC Platform

              Author: Zhu, Yuhao; Li, Fan; Cui, Miao; Fang, Zhicheng; Li, Ang; Yang, Dongyi; Zhao, Yinchao; Wen, Huiqing; Liu, Wen

            • New Insights Into Noise Characteristics of Hot Carrier Induced Defects in Polysilicon Emitter Bipolar Junction Transistors and SiGe HBTs

              Author: Zhu, Kunfeng; Zhang, Peijian; Xu, Zicheng; Wang, Tao; Yi, Xiaohui; Hong, Min; Yang, Yonghui; Zhang, Guangsheng; Liu, Jian; Wei, Jianan; Pu, Yang; Huang, Dong; Luo, Ting; Chen, Xian; Tang, Xinyue; Tan, Kaizhou; Chen, Wensuo

            • Cell Design Consideration in SiC Planar IGBT and Proposal of New SiC IGBT With Improved Performance Trade-Off

              Author: Zhang, Meng; Zhang, Yamin; Li, Baikui; Feng, Shiwei; Hua, Mengyuan; Tang, Xi; Wei, Jin; Chen, Kevin J.

            • Impact of Channel Thickness on the NBTI Behaviors in the Ge-OI pMOSFETs With Al2O3/GeOx Gate Stacks

              Author: Sun, Yu; Schwarzenbach, Walter; Yuan, Sicong; Chen, Zhuo; Yang, Yanbin; Nguyen, Bich-Yen; Gao, Dawei; Zhang, Rui

            英文介紹

            Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志英文介紹

            The IEEE Journal of the Electron Devices Society (J-EDS) is an open-access, fully electronic scientific journal publishing papers ranging from fundamental to applied research that are scientifically rigorous and relevant to electron devices. The J-EDS publishes original and significant contributions relating to the theory, modelling, design, performance, and reliability of electron and ion integrated circuit devices and interconnects, involving insulators, metals, organic materials, micro-plasmas, semiconductors, quantum-effect structures, vacuum devices, and emerging materials with applications in bioelectronics, biomedical electronics, computation, communications, displays, microelectromechanics, imaging, micro-actuators, nanodevices, optoelectronics, photovoltaics, power IC's, and micro-sensors. Tutorial and review papers on these subjects are, also, published. And, occasionally special issues with a collection of papers on particular areas in more depth and breadth are, also, published. J-EDS publishes all papers that are judged to be technically valid and original.

            中科院SCI分區

            Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志中科院分區信息

            2023年12月升級版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類:工程技術 3區
            小類:

            ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
            工程:電子與電氣 4區

            2022年12月升級版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類:工程技術 3區
            小類:

            ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
            工程:電子與電氣 3區

            2021年12月舊的升級版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類:工程技術 3區
            小類:

            ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
            工程:電子與電氣 3區

            2021年12月基礎版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類:工程技術 4區
            小類:

            ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
            工程:電子與電氣 4區

            2021年12月升級版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類:工程技術 3區
            小類:

            ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
            工程:電子與電氣 3區

            2020年12月舊的升級版
            綜述:
            TOP期刊:
            大類:工程技術 3區
            小類:

            ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
            工程:電子與電氣 3區

            中科院SCI分區:是中國科學院文獻情報中心科學計量中心的科學研究成果。期刊分區表自2004年開始發布,延續至今;2019年推出升級版,實現基礎版、升級版并存過渡,2022年只發布升級版,期刊分區表數據每年底發布。 中科院分區為4個區。中科院分區采用刊物前3年影響因子平均值進行分區,即前5%為該類1區,6%~20%為2區、21%~50%為3區,其余的為4區。1區和2區雜志很少,雜志質量相對也高,基本都是本領域的頂級期刊。

            JCR分區(2023-2024年最新版)

            Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志 JCR分區信息

            按JIF指標學科分區
            學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
            收錄子集:SCIE
            分區:Q3
            排名:202 / 352
            百分位:

            42.8%

            按JCI指標學科分區
            學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
            收錄子集:SCIE
            分區:Q3
            排名:179 / 354
            百分位:

            49.58%

            JCR分區:JCR分區來自科睿唯安公司,JCR是一個獨特的多學科期刊評價工具,為唯一提供基于引文數據的統計信息的期刊評價資源。每年發布的JCR分區,設置了254個具體學科。JCR分區根據每個學科分類按照期刊當年的影響因子高低將期刊平均分為4個區,分別為Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分區中期刊的數量是均勻分為四個部分的。

            CiteScore 評價數據(2024年最新版)

            Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志CiteScore 評價數據

            • CiteScore 值:5.2
            • SJR:0.505
            • SNIP:0.955
            學科類別 分區 排名 百分位
            大類:Materials Science 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 90 / 284

            68%

            大類:Materials Science 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 253 / 797

            68%

            大類:Materials Science 小類:Biotechnology Q2 139 / 311

            55%

            歷年影響因子和期刊自引率

            投稿經驗

            Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志投稿經驗

            該雜志是一本國際優秀雜志,在國際上有較高的學術影響力,行業關注度很高,已被國際權威數據庫SCIE收錄,該雜志在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC綜合專業領域專業度認可很高,對稿件內容的創新性和學術性要求很高,作為一本國際優秀雜志,一般投稿過審時間都較長,投稿過審時間平均 9 Weeks ,如果想投稿該刊要做好時間安排。版面費不祥。該雜志近兩年未被列入預警名單,建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案,請咨詢客服。

            免責聲明

            若用戶需要出版服務,請聯系出版商:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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